化學機械研磨/拋光 (CMP) 將化學反應(yīng)和機械研磨結(jié)合在一起,是一項成本高昂且具有挑戰(zhàn)性的重要納米拋光工藝。這一工藝是集成電路制造中關(guān)鍵的使能步驟,對產(chǎn)量和...
粵公網(wǎng)安備 44010502000033號