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集成電路芯片測(cè)試技術(shù)方法


  來(lái)源: 集成電路測(cè)試網(wǎng) 時(shí)間:2019-02-18 編輯:思楊
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半導(dǎo)體生產(chǎn)流程由晶圓制造,晶圓測(cè)試,芯片封裝和封裝后測(cè)試組成,晶圓制造和芯片封裝討論較多,而測(cè)試環(huán)節(jié)的相關(guān)知識(shí)經(jīng)常被邊緣化,下面集中介紹集成電路芯片測(cè)試的相關(guān)內(nèi)容,主要集中在WAT,CP和FT三個(gè)環(huán)節(jié)。



圖1 集成電路設(shè)計(jì)、制造、封裝流程示意圖


WAT(Wafer Acceptance Test)測(cè)試,也叫PCM(Process Control Monitoring),對(duì)Wafer 劃片槽(Scribe Line)測(cè)試鍵(Test Key)的測(cè)試,通過(guò)電性參數(shù)來(lái)監(jiān)控各步工藝是否正常和穩(wěn)定,例如CMOS的電容,電阻, Contact,metal Line 等,一般在wafer完成制程前,是Wafer從Fab廠(chǎng)出貨到封測(cè)廠(chǎng)的依據(jù),測(cè)試方法是用Probe Card扎在Test Key的metal Pad上,Probe Card另一端接在WAT測(cè)試機(jī)臺(tái)上,由WAT Recipe自動(dòng)控制測(cè)試位置和內(nèi)容,測(cè)完某條Test Key后,Probe Card會(huì)自動(dòng)移到下一條Test Key,直到整片Wafer測(cè)試完成。 WAT測(cè)試有問(wèn)題,超過(guò)SPEC,一般對(duì)應(yīng)Fab各個(gè)Module制程工藝或者機(jī)臺(tái)Shift,例如Litho OVL異常,ETCH CD 偏小,PVD TK偏大等等。WAT有嚴(yán)重問(wèn)題的Wafer會(huì)直接報(bào)廢。



圖2 Test Key示意圖




圖3 WAT Probe Card 示意圖


關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體 晶圓 芯片    瀏覽量:5647

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