國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主可控，是實(shí)現(xiàn)我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈自主可控的重要一環(huán)。近日，松山湖材料實(shí)驗(yàn)室精密儀器聯(lián)合工程中心產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目研發(fā)再獲新突破：項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)成功研制出電子束光刻系統(tǒng)，在全自主電子束光刻機(jī)整機(jī)的開(kāi)發(fā)與產(chǎn)業(yè)化過(guò)程中取得階段性進(jìn)展，初步實(shí)現(xiàn)了電子束光刻機(jī)整機(jī)的自主可控，標(biāo)志著國(guó)產(chǎn)電子束光刻機(jī)研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化邁出關(guān)鍵一步。

電子束光刻是利用聚焦電子束對(duì)某些高分子聚合物（電子束光刻膠）進(jìn)行曝光并通過(guò)顯影獲得圖形的過(guò)程，而產(chǎn)生聚焦電子束并讓聚焦電子束按照設(shè)定的圖形掃描的儀器就叫做電子束光刻機(jī)。它是推動(dòng)我們當(dāng)前新材料、前沿物理研究、半導(dǎo)體、微電子、光子、量子研究領(lǐng)域的重要手段之一。此前，全球電子束光刻機(jī)市場(chǎng)高度集中，主要由美日企業(yè)壟斷，我國(guó)尚未掌握該領(lǐng)域核心技術(shù)，裝備長(zhǎng)期依賴進(jìn)口。

松山湖材料實(shí)驗(yàn)室精密儀器研發(fā)團(tuán)隊(duì)作為首批入駐實(shí)驗(yàn)室的團(tuán)隊(duì)之一，專(zhuān)注于材料和半導(dǎo)體領(lǐng)域的精密加工、表征和測(cè)量設(shè)備研發(fā)。團(tuán)隊(duì)負(fù)責(zé)人許智已從事相關(guān)研究近20年，參與承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃專(zhuān)項(xiàng)工作及國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目，近5年帶領(lǐng)產(chǎn)業(yè)化團(tuán)隊(duì)研發(fā)的精密儀器成果轉(zhuǎn)化填補(bǔ)多項(xiàng)國(guó)產(chǎn)空白，產(chǎn)值超億元，產(chǎn)品出口美國(guó)、英國(guó)、德國(guó)、澳大利亞。

為了研制具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的電子束光刻機(jī)整機(jī)，精密儀器研發(fā)團(tuán)隊(duì)在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室完成一期項(xiàng)目研發(fā)并成立產(chǎn)業(yè)化公司后，帶資回到實(shí)驗(yàn)室進(jìn)入“滾動(dòng)發(fā)展”模式：產(chǎn)業(yè)化公司東莞澤攸精密儀器有限公司與實(shí)驗(yàn)室共同投資2400萬(wàn)元進(jìn)行第二階段研發(fā)，目標(biāo)是打造集科研與產(chǎn)業(yè)化為一體的電子束裝備技術(shù)創(chuàng)新基地。通過(guò)深入開(kāi)展電子束與新材料交叉領(lǐng)域的前沿技術(shù)研發(fā)，實(shí)現(xiàn)關(guān)鍵裝備和共性技術(shù)的自主可控，切實(shí)提升我國(guó)在電子束加工與制備領(lǐng)域的整體創(chuàng)新能力和產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

目前，東莞澤攸精密儀器有限公司已基于自主研制的掃描電鏡主機(jī)，完成電子束光刻機(jī)工程樣機(jī)研制，并開(kāi)展功能驗(yàn)證工作。通過(guò)對(duì)測(cè)試樣片的曝光生產(chǎn)，可以繪制出高分辨率的復(fù)雜圖形，朝著行業(yè)先進(jìn)水平穩(wěn)步前進(jìn)。該成果標(biāo)志著澤攸科技在電子束光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)和整機(jī)方面的自主創(chuàng)新能力獲得重大提升。下一步，團(tuán)隊(duì)及產(chǎn)業(yè)化公司將持續(xù)完善電子束光刻機(jī)的性能指標(biāo)，使其達(dá)到批量應(yīng)用及產(chǎn)業(yè)化的要求。

以下是電子束光刻機(jī)部分應(yīng)用案例：