近日，合肥工業(yè)大學(xué)研究人員在光學(xué)測(cè)量領(lǐng)域首次提出一種分析方法，在精密測(cè)量中實(shí)現(xiàn)了高階標(biāo)定模型的計(jì)算效率和穩(wěn)定性的大幅提升。該成果被《測(cè)量科學(xué)與技術(shù)》評(píng)選為亮點(diǎn)論文。

條紋投影掃描測(cè)量技術(shù)憑借非接觸式測(cè)量、測(cè)量速度快以及測(cè)量精度高等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于逆向工程、文物保護(hù)等復(fù)雜曲面幾何參數(shù)的精密測(cè)量領(lǐng)域。但由于條紋投影掃描測(cè)量技術(shù)需要通過(guò)高階模型進(jìn)行標(biāo)定，在測(cè)量中獲取的各項(xiàng)數(shù)據(jù)在高階模型中標(biāo)定較為困難，從而影響了測(cè)量結(jié)果的穩(wěn)定性。

研究人員針對(duì)標(biāo)定模型優(yōu)化、自適應(yīng)有效點(diǎn)云識(shí)別以及相位誤差精確補(bǔ)償?shù)汝P(guān)鍵問(wèn)題，提出了創(chuàng)新性的解決辦法，從而獲取了高精度的三維輪廓點(diǎn)云。同時(shí)，該團(tuán)隊(duì)首次提出一種確定高階標(biāo)定模型中各組成項(xiàng)對(duì)重構(gòu)結(jié)果重要性的分析方法，可在測(cè)量過(guò)程中識(shí)別并剔除對(duì)重構(gòu)結(jié)果影響微小的組成項(xiàng)，并通過(guò)優(yōu)化高階標(biāo)定模型，在保證精度的前提下，提升了高階標(biāo)定模型的計(jì)算效率和穩(wěn)定性。

據(jù)介紹，該成果可廣泛應(yīng)用于高精度光學(xué)三維掃描領(lǐng)域。目前，該團(tuán)隊(duì)已在條紋投影測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域申請(qǐng)4項(xiàng)國(guó)家發(fā)明專利。

新的光學(xué)測(cè)量方法不僅能夠?qū)崿F(xiàn)高階標(biāo)定模型的計(jì)算效率和穩(wěn)定性，并且提高了測(cè)量速度以及測(cè)量精度，能夠?yàn)榻窈蠊鈱W(xué)測(cè)量儀器設(shè)備提高技術(shù)上的支持和創(chuàng)新，同時(shí)能夠得到更為精準(zhǔn)的分析數(shù)據(jù)。