【文/觀察者網(wǎng) 呂棟】“中國不太可能獨(dú)立復(fù)制（replicate）出頂尖的光刻技術(shù)，因?yàn)榘⑺果溡蕾囉诓恍傅膭?chuàng)新，以及整合只有從非中國供應(yīng)商處才能獲得的零部件。但我的意思并不是絕對不可能，因?yàn)橹袊奈锢矶珊臀覀冞@里是一樣的。永遠(yuǎn)別那么絕對（Never say never），他們肯定會嘗試的。”當(dāng)?shù)貢r間1月19日，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）CEO溫彼得（Peter Wennink）表示。

光刻機(jī)是芯片制造核心設(shè)備，也是研發(fā)難度最大的半導(dǎo)體設(shè)備。目前，阿斯麥壟斷著全球頂尖光刻機(jī)市場，該公司也因此被美國視為圍堵中國大陸芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的“政治棋子”。而溫彼得在做出上述表述的同時還透露，阿斯麥尚未獲得向中國大陸出口最先進(jìn)光刻機(jī)的許可，但一些生產(chǎn)成熟制程的光刻機(jī)出口并不受限制。

CINNO Research半導(dǎo)體事業(yè)部總經(jīng)理Elvis Hsu在接受觀察者網(wǎng)采訪時表示，光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造設(shè)備價格占比最高的部分，約25-30%。其研發(fā)難點(diǎn)在于曝光光源、對準(zhǔn)系統(tǒng)和透光鏡頭等技術(shù)的整合，以及龐大資金投入。目前國內(nèi)技術(shù)領(lǐng)先的光刻機(jī)研制廠家是上海微電子，可以穩(wěn)定生產(chǎn)90/65nm制造工藝的光刻機(jī)。

路透社報道截圖

剛過去的2021年是全球芯片短缺最嚴(yán)重的一年，作為半導(dǎo)體制造關(guān)鍵設(shè)備提供商，阿斯麥1月19日也拿出一份亮眼業(yè)績。財報顯示，阿斯麥2021年總營收為186億歐元（約合人民幣1339億元），同比增長33%；凈利潤為59億歐元（約合人民幣425億元），同比增長66%；毛利率為53%，比上年同期提高4個百分點(diǎn)。

阿斯麥CEO溫彼得表示，2021年?duì)I收中有63億歐元來自42個EUV系統(tǒng)（極紫外光刻機(jī)）訂單，比上年多11個。該公司在過去一年經(jīng)歷許多挑戰(zhàn)，市場需求比最大產(chǎn)能高出40%至50%。為提高對客戶的支持，該公司選擇縮短周期以運(yùn)送更多設(shè)備，主要通過快速發(fā)貨流程跳過工廠的一些測試，并在客戶現(xiàn)場進(jìn)行最終測試和正式驗(yàn)收。雖然這會使收入確認(rèn)推遲到客戶正式驗(yàn)收前，但能幫助客戶提早進(jìn)行晶圓生產(chǎn)。

增加員工數(shù)量，也成為阿斯麥應(yīng)對需求增長的方法。溫彼得表示，該公司計劃在今年年底前將員工人數(shù)從目前的3.15萬人增加到3.5萬人。他透露，該公司在2021年凈增加4000多名新員工，到2022年底，員工人數(shù)將比2020年底增加近30%。不過，溫彼得表示，該公司可能需要兩到三年才能實(shí)現(xiàn)供需平衡。隨著新工廠的建設(shè)，到2025年或2026年，全球半導(dǎo)體行業(yè)甚至可能出現(xiàn)“某種程度的供過于求”。

單從四季度來看，阿斯麥實(shí)現(xiàn)營收50億歐元，凈利潤18億歐元，毛利率達(dá)到54.2%；新增訂單金額71億歐元。期內(nèi)，該公司共出貨82臺光刻系統(tǒng)，環(huán)比上季度增加3臺；其中EUV光刻系統(tǒng)11臺，比上個季度減少4臺；在所有出貨中，73%光刻機(jī)被用于邏輯工藝制造，27%的光刻機(jī)用于存儲芯片生產(chǎn)。

阿斯麥2021年四季度財報截圖

從出貨地來看，中國臺灣依然是阿斯麥的最大市場，四季度有51%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當(dāng)?shù)兀急拳h(huán)比提升5個百分點(diǎn)；韓國是該公司第二大市場，同期有27%的光刻系統(tǒng)發(fā)往當(dāng)?shù)?，占比環(huán)比下降6個百分點(diǎn)；中國大陸是阿斯麥第三大市場，四季度有22%的光刻系統(tǒng)向當(dāng)?shù)爻鲐?，占比提?2個百分點(diǎn)。2021年三季度，美國和日本分別在阿斯麥出貨中占比10%和1%，但四季度占比均意外降為0，具體原因尚不清楚。

阿斯麥光刻機(jī)出貨信息

過去幾年，阿斯麥一直在研發(fā)高數(shù)值孔徑（0.55 NA）EUV光刻機(jī)。這種EUV光刻機(jī)采用最新的光學(xué)設(shè)計，具有更高的分辨率（由13nm升級到8nm），可以使芯片面積縮小1.7倍，晶體管密度增加2.9倍。與目前的0.33 NA EUV光刻機(jī)相比，0.55 NA光刻機(jī)可以顯著提高良率、降低成本和縮短生產(chǎn)周期。當(dāng)然，0.55 NA光刻機(jī)的價格也相當(dāng)昂貴，每臺售價約為3億美元（約合人民幣19億元），比0.33 NA光刻機(jī)售價高出一倍。

目前，臺積電等生產(chǎn)7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻機(jī)，而第一代0.55 NA光刻機(jī)TWINSCAN EXE：5000還在研發(fā)過程中，預(yù)計2023年上市。早在2018年，英特爾就率先向阿斯麥下單第一代0.55 NA EUV光刻機(jī)，該公司也有望成為首個0.55 NA EUV光刻機(jī)的使用者，并將其用于3nm及以下制程。